Semiconductor

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VISTA HCP/GS

품명 SOURCE HEAD
사용공정 ION IMPLANT
재질 W, Mo, TZM, Al 외
용도 H/C 이온주입공정(설비)의 이온생성
장치.

VISTA HC/GS

품명 SOURCE HEAD
사용공정 ION IMPLANT
재질 W, Mo, TZM, Al 외
용도 H/C 이온주입공정(설비)의 이온생성
장치.

VISTA 810/GS

품명 SOURCE HEAD
사용공정 ION IMPLANT
재질 W, Mo, TZM, Al 외
용도 M/C 이온주입공정(설비)의 이온생성
장치.

VISTA 900XPT/GS

품명 SOURCE HEAD
사용공정 ION IMPLAN
재질 W, Mo, TZM, Al 외
용도 M/C 이온주입공정(설비)의 이온생성
장치.

E220/GS, E500/GS

품명 SOURCE HEAD
사용공정 ION IMPLANT
재질 W, Mo, TZM, Al 외
용도 M/C 이온주입공정(설비)의 이온생성
장치.

EXCEED/GS

품명 SOURCE HEAD
사용공정 ION IMPLANT
재질 W, Mo, TZM, Al 외
용도 M/C 이온주입공정(설비)의 이온생성
장치.

NV-GSD/GS

품명 SOURCE HEAD
사용공정 ION IMPLANT
재질 W, Mo, TZM, Al 외
용도 H/E 이온주입공정(설비)의 이온생성
장치.

QUANTUM/GS

품명 SOURCE HEAD
사용공정 ION IMPLANT
재질 W, Mo, TZM, Al 외
용도 H/C 이온주입공정(설비)의 이온생성
장치.